除氟剂

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半导体除氟剂

【药剂外观】白色、黄色

【有效含量】10%-20%

【 PH 】6.5 ~ 7.5

【应用行业】半导体制造、芯片生产废水处理、清洗液废气回收等

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一、 产品概括

半导体除氟剂是一种专门针对半导体行业含氟废水设计的高效化学药剂。它通过与废水中的氟离子（F⁻）发生化学反应，生成不溶性沉淀物，从而有效去除氟离子，确保处理后的废水达到环保排放标准或回用要求。

二、产品特点

高效除氟：能够快速降低废水中的氟离子浓度，去除率可达95%以上。

适用范围广：适用于不同pH值范围（通常为pH 6~8，部分产品可扩展至pH 2~12），适应性强。

反应迅速：反应时间短，通常在3~5分钟内完成，适合工业连续化处理。

无二次污染：生成的沉淀物稳定，不易重新溶解，避免对环境造成二次污染。

操作简便：提供固体和液体两种形式，易于投加和控制。

绿色环保：符合环保要求，处理后的废水可直接排放或回用。

三、应用领域

半导体清洗废水：处理芯片制造过程中产生的含氟废水。

光刻工艺废水：去除光刻过程中使用的氢氟酸或其他含氟化学品产生的废水。

蚀刻工艺废水：处理蚀刻工艺中产生的高氟废水。

其他含氟废水：涉及氟离子处理的电子、电镀等行业。

四、使用方法

水质分析：测定废水中氟离子浓度及pH值。

药剂投加：根据实验结果，按比例投加半导体除氟剂。

固体形式：先配制成一定浓度的溶液后投加。

液体形式：直接投加到废水中。

搅拌反应：充分搅拌废水，使药剂与氟离子充分接触反应（通常反应时间为3~5分钟）。

沉淀分离：静置沉淀或使用过滤设备分离生成的固体沉淀物。

水质检测：检测处理后废水中的氟离子浓度，确保达标。